开云app下载软件安装

0510-85310683
联系我们 / Contact us
当前位置:首页 > 新闻资讯

【48812】【星·企业】SiC晶片出产商「天科合达」敞开科创板上市征途

更新时间:06-13 02:02
作者: 新闻资讯

  北京监管局披露了国开证券股份有限公司关于北京天科合达半导体股份有限公司(以下简称「天科合达」)初次揭露发行股票并在科创板上市教导工作报告(第二期)。

  中科创星此前曾参加第三代半导体碳化硅(SiC)晶片研制及出产技能工业链的出资。中科创星以为,SiC材料具有高击穿电场、高饱满电子速度、高热导率、高电子密度、高迁移率等特色,是新一代半导体资猜中的佼佼者,可大规划的使用于高功率器材、高频&超高频通讯器材、高可靠性要求使用范畴,在新能源轿车、轨道交通、5G通讯、工业电源等范畴有极大使用潜力。

  SiC器材功能优势明显,但衬底材料制备难度太高、良率低、质量不稳,导致下流SiC器材十分贵重,长期以来并未能取得广泛使用。2018年以来,跟着SiC工业逐步老练,下流使用如光伏逆变器和以特斯拉&丰田为代表的电动轿车开端规划使用,工业规划效应闪现,SiC器材本钱开端一会儿就下降,SiC开端广泛进入各种使用场景,进入敏捷添加阶段。

  SiC工业链条中,衬底材料是中心,也是技能难度和工业价值最大的环节,「天科合达」是从事SiC衬底材料研制和出产的企业,现在技能水平、产能规划、出产良率、批次稳定性方面均处于全球前列、国内抢先的方位,「天科合达」产品掩盖导电型、半绝缘型SiC衬底并均大批量出货,特别导电型衬底材料在国内现在处于独占位置。

  「天科合达」是中科院物理所科技效果工业化项目,技能团队从上世纪末就开端就从事SiC衬底材料的科研工作,技能堆集深沉,是典型的硬科技项目,与中科创星一直以来倡议的“硬科技”出资理念高度匹配,技能难、门槛高、投入大、生长慢,但壁垒高、开展后劲儿十足,随技能彻底打破,以及下流使用开端迸发,加上「天科合达」已获2家国内尖端战略出资方加持绑定更多工业资源,其事务也将迎来迸发性增加。本次敞开「天科合达」科创板上市进程,是公司开展过程中自然而然的效果,即便完成科创板上市也仅仅「天科合达」开展过程中的阶段性效果,而不是终极目标,「天科合达」希望能生长为能够比美英飞凌、科锐这样的职业巨子,为SiC工业的全面开展做出自己的奉献。

  国开证券和「天科合达」于2019年12月6日签署上市教导协议,2019年12月12日教导存案获受理。

  揭露材料显现,「天科合达」于2006年9月由新疆天富集团、我国科学院物理研究所一起建立,现在注册资本为10364.29万元,是一家专门干第三代半导体碳化硅(SiC)晶片研制、出产和出售的高新技能企业。公司立足于自主研制,坚持工业立异,打破了国外企业的技能独占,现在公司碳化硅晶片产品很多出口至欧、美和日本等20多个国家和地区,成为我国少量进入国外闻名大企业的高技能产品。在碳化硅单晶职业,公司世界上的排名坐落第四位,国内排名居前列。

cache
Processed in 0.005137 Second.